技术指标及功能简介 
测量模式：AFM，STM，MFM，EFM，力曲线/力谱测量，纳米刻蚀/加工功能，X、Y方向闭环回路控制，非线性<1%，扫描范围：5μm×5μm×2.5μm,90μm×μm×7.5μm闭环扫描管；样品尺寸：50mm×50mm×18mm，光学辅助观察系统：140-700倍自动变倍。

主要研究方向：主要用于材料表面力学、电学、磁学性质的基本表征，纳米刻蚀和加工，在纳米尺度上定位构建各种结构，如Dip-pen nanolithography（蘸笔刻蚀）。