2014年1月8日，信息学院拟购的“多靶磁控溅射仪”购置可行性论证会在微纳电子大厦205会议室召开。会议由信息学院微电子系主任吴文刚教授主持，设备部设备管理办公室相关工作人员参加了会议。

“多靶磁控溅射仪”由信息学院刘力锋副教授申请购置，经费来源为“重大专项”经费。磁控溅射是在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，从而增加离子密度和能量，最终实现高速溅射的物理过程。拟购的“多靶磁控溅射仪”是用于多种薄膜制备的高性能研究型薄膜沉积系统，主要包括沉积室、真空系统和电学控制系统三个部分，具有制膜种类广泛、组分控制方便、沉积速率高、可制备多组分薄膜等优势，各项功能指标先进，满足申请人的研究需要。目前我校物理学院和信息学院等院系拥有多台磁控溅射设备，但使用率较高且无法满足申请人的技术需求。专家组根据申请人课题组开展基于忆阻器原理的新型微电子存储材料与器件研究的需要，认为该设备是进行忆阻器材料、电极材料制备的关键设备之一，将对北京大学的微电子学在新材料、新器件和新工艺领域的研究工作产生积极的推动作用。

该仪器设备购置经费已落实，运行管理的经费、人员、场地有保障，专家组一致同意通过“多靶磁控溅射仪”的可行性论证。设备购置后将在满足申请人课题组科研需要的同时对校内外开放使用，预计对申请人课题组之外的年开放共享机时为300小时左右。可行性论证专家组由清华大学微电子所潘立阳副教授，北京大学物理学院连贵君教授级高级工程师，信息学院吴文刚教授、刘晓彦教授和王兆江教授级高级工程师组成。